二、實驗制作

拋光硅片（直徑 100 mm，厚度 500 lm， 100 方向，P/B 摻雜，大學(xué)晶圓）襯底 （通常切成 1.2 3 1.2 厘米）通過沖洗制備 用甲苯、丙酮和去離子水，在下干燥 氮，然后用 Harrick 氧等離子體處理 250 mTorr 持續(xù) 20 分鐘。 氧化層厚度用橢偏儀測量（折射率，n1 5 1.46-設(shè)置，LSE Stokes 橢偏儀，Gaertner, Inc.）。 將表面改性的基材轉(zhuǎn)移到密封的 20 mL 閃爍瓶中，該瓶中裝有 1 L 正十八烷基三氯硅烷 (ODTS)（95%，Gelest， Inc.）和 999 lL 甲苯（使用來自 Fisher Scientific） （按體積計 0.1% ODTS）。 每個小瓶都放入冰水中 浴 1 小時，將溫度調(diào)節(jié)至 1 8C。 1 小時后， 按照相同的預(yù)處理過程沖洗和干燥每個小瓶中的改性硅晶片，但不包括 20 分鐘 氧等離子體處理。 然后將晶片在 120 8C烘箱2小時，冷卻至室溫，在甲苯中超聲60秒。 晶片再次沖洗并 干了。 ODTS 層的厚度測量 橢偏儀（ODTS，折射率，n2 5 1.457，Gelest, Inc.）作為 28.8 6 0.83 ?（20 個樣品的平均值）[圖。 1(A)]。 控制 表面能，改性O(shè)DTS層用 不同曝光時間的 UVO（Jelight 342 UVO 系統(tǒng)）。 緊接著，基板被用于測量 動態(tài)接觸角或流涂。

圖 1 (A) 制備具有可調(diào)表面能的基材然后應(yīng)用流涂工藝的示意圖。 (B) 動態(tài) 接觸角包括作為 UVO 時間函數(shù)的基材的前進（實心數(shù)據(jù)點）和后退（開放數(shù)據(jù)點）。 使用水（黑色數(shù)據(jù)點）和甲苯（藍(lán)色數(shù)據(jù)點）的液體。 誤差棒表示三個的標(biāo)準(zhǔn)偏差 獨立樣本。 (C) 在具有可調(diào)表面能的基材上制造的結(jié)構(gòu)，從無沉積、超支化結(jié)構(gòu)到通過流涂的水平線。 此處使用的其他流涂參數(shù)是初始濃度 co，如 0.5 mg/mL，停止時間 t 為 100 ms，設(shè)置距離 d 為 5 lm。

動態(tài)接觸角測量

使用去離子水和甲苯確定 ODTS 處理過的基材的前進和后退接觸角 在室溫下（VCA-optima TM, AST, Inc.）。

聚苯乙烯柔性葉片流涂

流涂以程序速度 (v) 進行 （基板移動的速度），設(shè)置距離（d）（距離 基板移動）和停止時間（t）（基板的時間 暫停）下移動 - 停止交替步驟（支持信息，圖 S1）。 在這項工作中，編程速度 v 是 保持恒定在 1 毫米/秒。 流涂技術(shù)在參考文獻 11 和 12 中詳細(xì)討論。 最近報道了流涂技術(shù)的改進，12 聚對苯二甲酸乙二醇酯 (PET) 葉片用作頂部限制邊界。 靈活的 PET 刀片（75 lm 3 2 cm 3 4 cm） 將在本作品中使用。 溶劑區(qū)是通過刻劃 PET 刀片距彎液面邊緣 1 毫米。 使用的解決方案 這里報道的流涂實驗是聚苯乙烯 甲苯溶液（聚苯乙烯， Mn 5 1100 kg/mol，PDI 5 1.15，Polymer Source, Inc.）。 就地 結(jié)構(gòu)形成的觀察是用 正置光學(xué)顯微鏡（Zeiss Axio Tech Vario、Pixel Link CCD 相機）。

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結(jié)構(gòu)——摘要、簡介

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結(jié)構(gòu)——實驗制作

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結(jié)構(gòu)——結(jié)果和討論

通過柔性葉片流涂膜的超支化聚合物結(jié)構(gòu)——結(jié)論、致謝！